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曝光機第一品牌【大川光電，黃先生，13682302959】深圳市大川光電設備有限公司是中國最早從事曝光機研發制造的企業之一，1999年成立于深圳市保安區石巖鎮，經過多年的持續發展，2008年成立于深圳市寶安區石巖鎮，經過多年的持續，2008年公司引進國際先進技術，為UV-LED平行曝光機研發、制造立項。致力于為中國PCB、FPC企業提供高品質低能耗精密平行曝光機。
　　
　　曝光挑選必定強度的曝光機。曝光機的原理：曝光時UV光輻射于感光膜，因強度和時刻的聯系，UV光可瞬時輻射至感光膜的底層，使濕膜中的光敏樹脂和單體交聯成大分子。顯影顯影液為0.8%~1.5%的碳酸鈉。有噴淋顯影或手藝浸入式顯影2種方法。顯影時未曝光的有些不交聯，沒能構成大分子，先是溶脹，最終是掉落并溶于顯影液中。而曝光的有些構成交聯，變成大分子，為不溶于顯影液的掩膜留在板面上，構成了能抗蝕刻(抗電鍍)的圖形。后處理分下面2種方法。
　　再次熱固：交聯進程的大分子進一步完全固化，熱固溫度為100~150℃，需10~30min。
　　UV輻射：使交聯布局愈加結實，輻射時運用3×80W高壓水銀燈，線速度為5~6m/s。
　　6kW光源測得的光強為4mW/cm2，曝光時刻是3kW的1/2，而光能量一樣，盡管光梯尺級數稍高，但在100mJ/cm2時才有增粗的痕跡。線條增粗網點增大，嚴峻地破壞了分辨率和圖畫的清晰度，電路板細線的加粗嚴峻時可能會短路，而若是網點加粗，就會使精細金屬畫的圖畫失真。從上面的測驗成果可看出，3kW和6kW的光源盡管光能量一樣，但因光強的區別而得出不一樣的成果。3kW光源因UV強度低，在短時刻內不能射入濕膜的底層，為使其能射入底層而加長時刻，這時氧的阻聚發揮了效果，在濕膜中下層發生阻聚。曝光機跟著時刻的加長和光的分散，使有些交聯和聚合不能完結，停留在曝光區的周圍，結尾致使線條加粗、分辨率降低。而6kW的光源能在短時刻內射入膜層底部，使被射有些在短時刻內進行交聯和聚合，也就是說當非曝光區的氧還未進入曝光區時就現已完結了曝光程序，這樣避免了氧的阻聚。因而高強度的UV光、短時刻曝光是完結細線及細網點曝光的要害。
　　以上信息由高精度曝光機提供，希望對您有所幫助。

公司名稱：深圳市大川光電設備有限公司
高精度曝光機：　　
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